| 展會日期 | 2026-09-22 至 2026-09-24 |
| 展出城市 | 武漢 |
| 展出地址 | 湖北武漢漢陽區(qū)鸚鵡大道 |
| 展館名稱 | 武漢國際博覽中心 |
| 主辦單位 | 武漢華中優(yōu)優(yōu)國際會展有限公司 |
| 承辦單位 | 武漢華中優(yōu)優(yōu)國際會展有限公司 |
| 展會日期 | 2026-09-22 至 2026-09-24 |
| 展出城市 | 武漢 |
| 展出地址 | 湖北武漢漢陽區(qū)鸚鵡大道 |
| 展館名稱 | 武漢國際博覽中心 |
| 主辦單位 | 武漢華中優(yōu)優(yōu)國際會展有限公司 |
| 承辦單位 | 武漢華中優(yōu)優(yōu)國際會展有限公司 |
武漢2026電子元器件與半導(dǎo)體展,成為行業(yè)創(chuàng)新聚合點(diǎn)
2026武漢國際電子元器件與半導(dǎo)體展:聚行業(yè)力量,筑創(chuàng)新高地,啟未來征程?
2026 武漢國際電子元器件與半導(dǎo)體展覽會于9月22-24 日在武漢國際博覽中心舉辦,這場展會不僅是行業(yè)內(nèi)的重要聚會,更是一個展望未來、激發(fā)創(chuàng)新思維的平臺,匯聚行業(yè)力量,構(gòu)筑創(chuàng)新高地,開啟電子元器件與半導(dǎo)體行業(yè)的未來征程。
從行業(yè)發(fā)展的宏觀視角來看,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于快速變革與突破的關(guān)鍵時期。人工智能、5G 通信、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的蓬勃發(fā)展,對芯片的性能、功耗、集成度等提出了前所未有的高要求。例如,在人工智能領(lǐng)域,用于深度學(xué)習(xí)的 AI 芯片需要具備強(qiáng)大的并行計算能力,以加速復(fù)雜模型的訓(xùn)練與推理過程。據(jù)市場研究機(jī)構(gòu)預(yù)測,到 2028 年,全球 AI 芯片市場規(guī)模有望突破 1000 億美元,年復(fù)合增長率超過 30%。而 5G 通信的普及,也依賴于高性能的射頻芯片、基帶芯片等,以實(shí)現(xiàn)高速率、低時延的數(shù)據(jù)傳輸。在此背景下,本次展會的舉辦恰逢其時,為行業(yè)各方提供了一個匯聚前沿技術(shù)、交流創(chuàng)新理念的絕佳平臺。?
展會現(xiàn)場,前沿技術(shù)成果琳瑯滿目。在芯片設(shè)計展區(qū),眾多企業(yè)展示了基于先進(jìn)制程工藝的芯片設(shè)計方案。如某知名企業(yè)推出的采用 3 納米制程工藝的通用處理器芯片,在單位面積上集成了超過 1000 億個晶體管,相較于上一代產(chǎn)品,運(yùn)算速度提升了 50%,功耗降低了 30%。該芯片在數(shù)據(jù)中心、高性能計算等領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力,能夠顯著提升系統(tǒng)的整體性能。同時,異構(gòu)集成技術(shù)成為展區(qū)的一大亮點(diǎn)。通過將不同功能的芯片,如 CPU、GPU、FPGA 等,采用先進(jìn)的封裝技術(shù)集成在一個模塊中,實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)級的性能優(yōu)化。這種異構(gòu)集成芯片不僅減少了系統(tǒng)的體積和功耗,還提高了系統(tǒng)的可靠性和穩(wěn)定性,在智能終端、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備等領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。
武漢,作為我國重要的科技創(chuàng)新中心和制造業(yè)基地,在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面具有得天獨(dú)厚的優(yōu)勢。近年來,武漢加大了對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的政策支持和資金投入,吸引了眾多半導(dǎo)體企業(yè)入駐。如長江存儲科技有限責(zé)任公司在存儲芯片領(lǐng)域取得了重大突破,其自主研發(fā)的 3D NAND 閃存芯片已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),打破了國外企業(yè)在該領(lǐng)域的長期壟斷。武漢新芯集成電路制造有限公司也在集成電路制造領(lǐng)域不斷深耕,提升技術(shù)水平和產(chǎn)能。本次展會在武漢舉辦,將進(jìn)一步發(fā)揮武漢的產(chǎn)業(yè)集聚效應(yīng)和輻射帶動作用,促進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在中西部地區(qū)的快速發(fā)展,提升我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在全球的競爭力。?
半導(dǎo)體制造裝備展區(qū)同樣精彩紛呈。極紫外光刻(EUV)設(shè)備無疑是焦點(diǎn)中的焦點(diǎn)。EUV 光刻技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)納米級別的芯片制程,是推動芯片制造工藝進(jìn)步的關(guān)鍵技術(shù)。目前,全球僅有少數(shù)幾家企業(yè)掌握了 EUV 光刻技術(shù),其設(shè)備價格高昂,但卻是生產(chǎn)先進(jìn)芯片的必備工具。展會上,相關(guān)企業(yè)展示了 EUV 光刻設(shè)備的最新技術(shù)進(jìn)展,包括更高的光刻精度、更快的生產(chǎn)效率等。此外,先進(jìn)的刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備等也吸引了大量專業(yè)觀眾的目光。這些設(shè)備的技術(shù)創(chuàng)新,為芯片制造工藝的提升提供了堅實(shí)的保障。??
武漢,這座歷史悠久且充滿活力的城市,憑借在中部地區(qū)的戰(zhàn)略地位和不斷優(yōu)化的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu),成為 2026 武漢國際電子元器件與半導(dǎo)體展覽會的理想舉辦地,而展會也依托武漢的獨(dú)特優(yōu)勢,成為行業(yè)創(chuàng)新的聚合點(diǎn)。